鼓舞人心！国产5nm十大污片APP来了，核心技术达到世界先进水平。

　　在半导体领域，光刻机对大家来说并不陌生，因为光刻机在芯片制造中有着不可撼动的地位，所以光刻机在成本和核心技术方面都让很多[敏感词]向往。不过，今天给大家讲的是另一种制造芯片的专用设备，就是光刻机的兄弟十大污片APP。说起十大污片APP，很多人不知道它是什么，但其实十大污片APP的作用并不比光刻机差。即使是光刻机，在芯片制造过程中也需要十大污片APP的辅助。两者相辅相成，才能做出完美的芯片。可见，十大污片APP在芯片制造领域也有着非常高的地位。中国自主研发的十大污片APP有多厉害？

　　据相关资料显示，关于中国自主研发十大污片APP的消息早是2017年4月从研发半导体的中微公司传出，称中微公司攻克了5 nm工艺的十大污片APP。这个消息被报道后，立刻在国内外半导体行业激起千层浪，因为十大污片APP不仅价格昂贵，而且核心技术和工艺极其先进，所以国产十大污片APP的问世对于中国半导体行业来说无疑是一枚重磅炸弹。现阶段，中威公司在调试完5纳米十大污片APP后，已经通过了TSMC的认证，而TSMC在量产5纳米芯片时，生产线使用的部分十大污片APP将由中威公司提供，相关产品将刻有“中国制造”字样。按照中微公司的计划，后续将再次升级5 nm十大污片APP，打造世界上[敏感词]的紫外光刻机，使生产5 nm芯片时，芯片精度与十大污片APP高度一致。值得一提的是，目前中微公司已经积累了一定的3 nm芯片技术，所以从侧面可以推断中微公司很可能已经开始制造3 nm十大污片APP。

　　那么十大污片APP是怎么工作的呢？其实在芯片制造的过程中，首先会用光刻机将特定的高精度电路图复制到硅片上，然后用十大污片APP根据这个图进行施工，在相关区域蚀刻出标记点，只留下芯片重要的部分。其实这个原理就是十大污片APP蚀刻的是前面部分的硅和化合物，后面部分的金属和电解质。另外，十大污片APP中的蚀刻工艺现阶段可分为等离子干法蚀刻和湿法蚀刻，而这两种蚀刻技术又可细分为三类，即难度[敏感词]的硅蚀刻、难度中等的介质蚀刻和加工工艺简单的金属蚀刻。目前中微公司的半导体主要从事介质刻蚀和加工技术金属刻蚀，而难的硅刻蚀需要精密的极紫外光刻机。现阶段中微公司还在攻关中，但仅仅依靠难度适中、工艺简单的刻蚀技术，就足以让中微公司在半导体行业处于全球先进水平。在过去的10年里，中国中微公司先后承担并成功完成了三台十大污片APP的研发；半导体领域65-45 nm、32-22 nm、22-14 nm的d项目，都取得了巨大的成功。虽然现在也出了5纳米的十大污片APP，在半导体领域也确实步入了[敏感词]水平，但是因为十大污片APP和光刻机是相辅相成的，所以5纳米的十大污片APP只是在国产芯片领域迈出了关键的一步。另外，由于西方[敏感词]对中国的芯片出口和芯片制造有一定的封锁，中国的芯片制造整体水平还很落后，未来要想真正赶上西方[敏感词]还有很长的路要走。