金属蚀刻设备的工作原理及应用范围

其基本原理是在真空和低压下，将ICP射频电源产生的射频输出到环形耦合线圈，并将一定比例的混合蚀刻气体耦合到辉光放电产生高密度等离子体，在射频的作用下施加到下电极的射频上，这些等离子体轰击下电极在基板表面，基板图案区域内半导体材料的化学键被破坏，挥发性物质随蚀刻气体产生，以气体的形式与基板分离，并从真空管道中抽离。

金属蚀刻设备的工作原理及适用范围化学蚀刻是利用化学溶液通过化学反应达到蚀刻的目的。化学十大污片APP是通过化学反应或物理冲击去除材料的技术。

电蚀是利用金属阳极溶解的原理，以自来水或盐水为腐蚀主体（在电解作用下）在液体中对金属进行腐蚀并接通腐蚀电源，从而达到腐蚀的目的。

优点：无污染，但只有一步蚀刻不无污染，其他工艺也必须无污染，适合实验性生产，小面积蚀刻凹字。它主要用于科研实验机上，或简单地在金属上蚀刻痕迹，又称电痕。

缺点：蚀刻表面不平，大面积腐蚀慢，不能用于批量生产，大面积蚀刻凸字，也不能用于标志的批量生产和加工。

金属蚀刻设备主要用于航空、机械和标签行业。刻蚀技术广泛应用于传统加工方法难以加工的轻型仪表板、铭牌和薄工件的加工。在半导体和电路板的制造过程中，刻蚀是一项不可缺少的技术。现广泛应用于金卡标签加工、手机按键加工、不锈钢滤光片加工、不锈钢电梯装饰板加工、金属引线框加工、金属眼镜脚线加工、电路板加工、金属装饰板加工等工业应用。